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cvd镀膜-菱威纳米-cvd镀膜服务
空气饱和器（不锈钢圆桶）内加入蒸馏水或去离子水，水位离度为液面计玻璃管上部4/5位置，加蒸馏水时，应打开饱和器上部的进水阀，当加到规定水位时，必须关闭阀门。

长时间的试验后，cvd镀膜，饱和器的水份会消耗，水位降低至下部1/5位置，应及时补水，防止缺水后，cvd镀膜涂层，烧坏饱和器内的加热元件。

用橡胶管把盐水喷雾试验机和工作室内喷雾塔底部的进水口连接好，把配制好的盐溶液（按5%浓度）放入盐雾箱背后的贮水箱内，盐水由于大气压的作用靠平衡自动流入喷雾塔内，盐水不能低于贮水箱的下限标记（即出水口）。

在真空条件下成膜有很多优点：可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等），以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量，从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。

蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。

待系统抽至高真空后，cvd镀膜玻璃，加热坩埚使其中的物质蒸发。

蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。

薄膜厚度可由数百埃至数微米。

膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间（或决定于装料量），并与源和基片的距离有关。

对于大面积镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。

机械理论认为，胶粘剂必须渗入被粘物表面的空隙内，并排除其界面上吸附的空气，才能产生粘接作用。

在粘接如泡沫塑料的多孔被粘物时，机械嵌定是重要因素。

吸附理论认为，粘接是由两材料间分子接触和界面力产生所引起的。

粘接力的主要来源是分子间作用力包括氢键力和范德华力。

胶粘剂与被粘物连续接触的过程叫润湿，要使胶粘剂润湿固体表面，胶粘剂的表面张力应小于固体的临界表面张力，胶粘剂浸入固体表面的凹陷与空隙就形成良好润湿。

如果胶粘剂在表面的凹处被架空，便减少了胶粘剂与被粘物的实际接触面积，从而降低了接头的粘接强度。

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